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文献
J-GLOBAL ID：201702272756532543
整理番号：17A1344691
原子層堆積によるYVO_4:Yb~3+薄膜における強い近赤外発光【Powered by NICT】
Intense NIR emission in YVO4:Yb3+ thin films by atomic layer deposition
Getz Michael N.
(Department of Chemistry, Centre for Materials Science and Nanotechnology, University of Oslo, Sem Saelandsvei 26, 0371 Oslo, Norway. Ola.Nilsen@kjemi.uio.no)
,
Hansen Per-Anders
,
Fjellvag Oystein S.
,
Ahmed Mohammed A. K.
,
Fjellvag Helmer
,
Nilsen Ola
資料名：
Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices
(Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices)
巻： 5 号： 33 ページ： 8572-8578 発行年： 2017年
JST資料番号： W2383A ISSN： 2050-7526 CODEN： JMCCCX 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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