文献
J-GLOBAL ID:201702272789108413
整理番号:17A1810982
二重モードプラズマ反応器の予期しない結果 窒化シリコンによる実験室記録のシリコン表面不動態化向上のための示唆
Unintentional consequences of dual mode plasma reactors: Implications for upscaling lab-record silicon surface passivation by silicon nitride
著者 (4件):
TONG Jingnan
(Univ. New South Wales, NSW, AUS)
,
TO Alexander
(Univ. New South Wales, NSW, AUS)
,
LENNON Alison
(Univ. New South Wales, NSW, AUS)
,
HOEX Bram
(Univ. New South Wales, NSW, AUS)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
56
号:
8S2
ページ:
08MB12.1-08MB12.5
発行年:
2017年08月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)