文献
J-GLOBAL ID:201702272975865252
整理番号:17A1013186
リモートプラズマ増強原子層蒸着を用いたZrO2成長に対するカットオフ現象効果
The Cut-Off Phenomenon Effect on ZrO2 Growth Using Remote Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition
著者 (8件):
CHEN Zheng
(Jilin Univ., Jilin, CHN)
,
WANG Haoran
(Jilin Univ., Jilin, CHN)
,
XIONG Pengpeng
(Jilin Univ., Jilin, CHN)
,
CHEN Ping
(Jilin Univ., Jilin, CHN)
,
LI Huiying
(Jilin Univ., Jilin, CHN)
,
LIU Yunfei
(Jilin Univ., Jilin, CHN)
,
DUAN Yu
(Jilin Univ., Jilin, CHN)
,
DUAN Yu
(Changchun Univ. Sci. and Technol., Jilin, CHN)
資料名:
Journal of Physical Chemistry C
(Journal of Physical Chemistry C)
巻:
121
号:
8
ページ:
4714-4719
発行年:
2017年03月02日
JST資料番号:
W1877A
ISSN:
1932-7447
CODEN:
JPCCCK
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)