文献
J-GLOBAL ID:201702274403914519
整理番号:17A0325970
溶液処理酸化物薄膜の化学的耐久性工学と化学的に強いパターン化酸化物薄膜トランジスタへの応用【Powered by NICT】
Chemical durability engineering of solution-processed oxide thin films and its application in chemically-robust patterned oxide thin-film transistors
著者 (9件):
Cho Sung Woon
(School of Advanced Materials Science and Engineering, Sungkyunkwan University, 300 Cheoncheon-dong, Jangan-gu, Suwon, Gyeonggi-do 16419, Republic of Korea. chohk@skku.edu)
,
Kim Da Eun
,
Kang Won Jun
,
Kim Bora
,
Yoon Dea Ho
,
Kim Kyung Su
,
Cho Hyung Koun
,
Kim Yong-Hoon
,
Kim Yunseok
資料名:
Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices
(Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices)
巻:
5
号:
2
ページ:
339-349
発行年:
2017年
JST資料番号:
W2383A
ISSN:
2050-7526
CODEN:
JMCCCX
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)