文献
J-GLOBAL ID:201702274521762782
整理番号:17A1810976
シリコンヘテロ接合太陽電池への応用のためのアモルファスシリコン膜の触媒リンとホウ素ドーピング
Catalytic phosphorus and boron doping of amorphous silicon films for application to silicon heterojunction solar cells
著者 (3件):
OHDAIRA Keisuke
(Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
SETO Junichi
(Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
,
MATSUMURA Hideki
(Japan Advanced Inst. of Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
56
号:
8S2
ページ:
08MB06.1-08MB06.5
発行年:
2017年08月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)