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文献
J-GLOBAL ID：201702274663976739
整理番号：17A1056797
非晶質炭窒化けい素のプラズマ増強化学蒸着:大気下での結合構造,屈折率,機械的応力とその加齢の蒸着温度依存性【Powered by NICT】
Plasma-enhanced chemical vapor deposition of amorphous silicon carbonitride: Deposition temperature dependence of bonding structure, refractive index, mechanical stress and their aging under ambient air
Huber Christian
(Microsystems and Nanotechnologies Department, Robert Bosch GmbH, 71272 Renningen, Germany)
,
Huber Christian
(Institute of Applied Physics, Karlsruhe Institute of Technology, Karlsruhe 76131, Germany)
,
Stein Benedikt
(Microsystems and Nanotechnologies Department, Robert Bosch GmbH, 71272 Renningen, Germany)
,
Kalt Heinz
(Microsystems and Nanotechnologies Department, Robert Bosch GmbH, 71272 Renningen, Germany)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 634 ページ： 66-72 発行年： 2017年
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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