文献
J-GLOBAL ID:201702274670955248
整理番号:17A1810257
極端紫外リソグラフに使用する光分解性クエンチャをもつ化学増幅レジストのショットノイズ限界
Shot noise limit of chemically amplified resists with photodecomposable quenchers used for extreme ultraviolet lithography
著者 (3件):
KOZAWA Takahiro
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
SANTILLAN Julius Joseph
(Evolving Nano-process Infrastructure Dev. Center, Inc. (EIDEC), Ibaraki, JPN)
,
ITANI Toshiro
(Evolving Nano-process Infrastructure Dev. Center, Inc. (EIDEC), Ibaraki, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
56
号:
6
ページ:
066501.1-066501.6
発行年:
2017年06月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)