文献
J-GLOBAL ID:201702274742239911
整理番号:17A1802779
ポジティブトーンデキストリンレジスト材料を用いた電子ビームリソグラフィのためのエコフレンドリーエタノール現像可能プロセス
Ecofriendly ethanol-developable processes for electron beam lithography using positive-tone dextrin resist material
著者 (7件):
TAKEI Satoshi
(Toyama Prefectural Univ., Toyama, JPN)
,
SUGINO Naoto
(Toyama Prefectural Univ., Toyama, JPN)
,
HANABATA Makoto
(Toyama Prefectural Univ., Toyama, JPN)
,
OSHIMA Akihiro
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
KASHIWAKURA Miki
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
KOZAWA Takahiro
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
TAGAWA Seiichi
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名:
Applied Physics Express
(Applied Physics Express)
巻:
10
号:
7
ページ:
076502.1-076502.4
発行年:
2017年07月
JST資料番号:
F0599C
ISSN:
1882-0778
CODEN:
APEPC4
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)