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文献
J-GLOBAL ID:201702274840783110   整理番号:17A0405516

原子層堆積により作製したV_2O_5陰極における電荷速度依存性応力と構造変化のin situ特性化【Powered by NICT】

In situ characterization of charge rate dependent stress and structure changes in V2O5 cathode prepared by atomic layer deposition
著者 (9件):
Jung Hyun
(MEMS Sensors and Actuators Laboratory (MSAL), University of Maryland, College Park, MD 20742, USA)
Jung Hyun
(Department of Electrical and Computer Engineering, University of Maryland, College Park, MD 20742, USA)
Jung Hyun
(Institute for Systems Research, University of Maryland, College Park, MD 20742, USA)
Gerasopoulos Konstantinos
(MEMS Sensors and Actuators Laboratory (MSAL), University of Maryland, College Park, MD 20742, USA)
Gerasopoulos Konstantinos
(Institute for Systems Research, University of Maryland, College Park, MD 20742, USA)
Talin A. Alec
(Sandia National Laboratories, Livermore, CA 94551, USA)
Ghodssi Reza
(MEMS Sensors and Actuators Laboratory (MSAL), University of Maryland, College Park, MD 20742, USA)
Ghodssi Reza
(Department of Electrical and Computer Engineering, University of Maryland, College Park, MD 20742, USA)
Ghodssi Reza
(Institute for Systems Research, University of Maryland, College Park, MD 20742, USA)

資料名:
Journal of Power Sources  (Journal of Power Sources)

巻: 340  ページ: 89-97  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0703B  ISSN: 0378-7753  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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