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文献
J-GLOBAL ID：201702275079440225
整理番号：17A1386176
バイポーラ型プラズマベースイオン注入システムを用いた高出力パルスマグネトロンスパッタリングにより作製した導電性ダイヤモンド状炭素膜【Powered by NICT】
Conductive diamond-like carbon films prepared by high power pulsed magnetron sputtering with bipolar type plasma based ion implantation system
Nakao Setsuo
(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Japan)
,
Kimura Takashi
(Nagoya Institute of Technology, Japan)
,
Suyama Taku
(Nagoya Institute of Technology, Japan)
,
Azuma Kingo
(University of Hyogo, Japan)
資料名：
Diamond and Related Materials
(Diamond and Related Materials)
巻： 77 ページ： 122-130 発行年： 2017年
JST資料番号： W0498A ISSN： 0925-9635 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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