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J-GLOBAL ID:201702275106980330   整理番号:17A0214349

サブ7nm技術ノードのための室温中性ビーム酸化による高性能相補GeピーキングFinFET【Powered by NICT】

High performance complementary Ge peaking FinFETs by room temperature neutral beam oxidation for sub-7 nm technology node applications
著者 (30件):
Lee Y.-J.
(National Nano Device Laboratories, Hsinchu, Taiwan)
Hong T.-C.
(Dept. of Electrophysics, National Chiao Tung University, Hsinchu, Taiwan)
Hsueh F.-K.
(National Nano Device Laboratories, Hsinchu, Taiwan)
Sung P.-J.
(National Nano Device Laboratories, Hsinchu, Taiwan)
Chen C.-Y.
(Dept. of Electrical and Computer Engineering, National Chiao Tung University, Hsinchu, Taiwan)
Chuang S.-S.
(Dept. of Electronics Engineering & Institute of Electronics, National Chiao Tung University, Hsinchu, Taiwan)
Cho T.-C.
(Dept. of Electrophysics, National Chiao Tung University, Hsinchu, Taiwan)
Noda S.
(Institute of Fluid Science, Tohoku University, Sendai, Japan)
Tsou Y.-C.
(Dept. of Electrical Engineering, National Cheng Kung University, Tainan, Taiwan)
Kao K.-H.
(Dept. of Electrical Engineering, National Cheng Kung University, Tainan, Taiwan)
Wu C.-T.
(National Nano Device Laboratories, Hsinchu, Taiwan)
Yu T.-Y.
(National Nano Device Laboratories, Hsinchu, Taiwan)
Jian Y.-L.
(National Nano Device Laboratories, Hsinchu, Taiwan)
Su C.-J.
(National Nano Device Laboratories, Hsinchu, Taiwan)
Huang Y.-M.
(National Nano Device Laboratories, Hsinchu, Taiwan)
Huang W.-H.
(National Nano Device Laboratories, Hsinchu, Taiwan)
Chen B.-Y.
(National Nano Device Laboratories, Hsinchu, Taiwan)
Chen M.-C.
(National Nano Device Laboratories, Hsinchu, Taiwan)
Huang K.-P.
(Mechanical and Systems Research Laboratories, Industrial Technology Research Institute, Hsinchu, Taiwan)
Li J.-Y.
(Dept. of Electrical Engineering and Graduate Institute of Electronics Engineering, National Taiwan University, Taipei, Taiwan)
Chen M.-J.
(Dept. of Materials Science and Engineering, National Taiwan University, Taipei, Taiwan)
Li Y.
(Dept. of Electrical and Computer Engineering, National Chiao Tung University, Hsinchu, Taiwan)
Samukawa S.
(Institute of Fluid Science, Tohoku University, Sendai, Japan)
Wu W.-F.
(National Nano Device Laboratories, Hsinchu, Taiwan)
Huang G.-W.
(National Nano Device Laboratories, Hsinchu, Taiwan)
Shieh J.-M.
(National Nano Device Laboratories, Hsinchu, Taiwan)
Tseng T.-Y.
(Dept. of Electrophysics, National Chiao Tung University, Hsinchu, Taiwan)
Chao T.-S.
(Dept. of Electrophysics, National Chiao Tung University, Hsinchu, Taiwan)
Wang Y.-H.
(Dept. of Electrical Engineering, National Cheng Kung University, Tainan, Taiwan)
Yeh W.-K.
(National Nano Device Laboratories, Hsinchu, Taiwan)

資料名:
IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)

巻: 2016  号: IEDM  ページ: 33.5.1-33.5.4  発行年: 2016年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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