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文献
J-GLOBAL ID：201702275363160847
整理番号：17A0364625
炭素照射後のITO膜の再結晶化【Powered by NICT】
Re-crystallization of ITO films after carbon irradiation
Usman Muhammad
(Experimental Physics Laboratories, National Centre for Physics, Shahdara Valley Road, Quaid-i-Azam University, Islamabad, Pakistan)
,
Khan Shahid
(State Key Laboratory of Silicon Materials, School of Materials Science and Engineering, Zhejiang University, Hangzhou 310027, China)
,
Khan Majid
(Department of Physics, Quaid-i-Azam University, Islamabad, Pakistan)
,
Abbas Turab Ali
(Experimental Physics Laboratories, National Centre for Physics, Shahdara Valley Road, Quaid-i-Azam University, Islamabad, Pakistan)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 392 ページ： 863-866 発行年： 2017年
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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