文献
J-GLOBAL ID:201702275668447498
整理番号:17A0664782
接触モード原子間力顕微鏡を用いたCVDグラフェン表面上の除去PMMA残基の影響【Powered by NICT】
Influence of removing PMMA residues on surface of CVD graphene using a contact-mode atomic force microscope
著者 (4件):
Choi Woosuk
(Department of Nanotechnology, Advanced Material Engineering, Graphene Research Institute, Sejong University, Seoul, 143-747, Korea. yseo@sejong.ac.kr)
,
Shehzad Muhammad Arslan
,
Park Sanghoon
,
Seo Yongho
資料名:
RSC Advances (Web)
(RSC Advances (Web))
巻:
7
号:
12
ページ:
6943-6949
発行年:
2017年
JST資料番号:
U7055A
ISSN:
2046-2069
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)