文献
J-GLOBAL ID:201702275717874290
整理番号:17A1258270
高温N型プラズマドーピング(PLAD)注入の特性評価【Powered by NICT】
Characterization of hot N-type plasma doping (PLAD) implantation
著者 (6件):
Li Haoyu
(Micron Technology, 8000 S. Federal Way, Boise, ID 83707, USA)
,
Raj Deven
(Applied Materials Inc., 35 Dory Road, Gloucester, MA 01930, USA)
,
Hu Y. Jeff
(Micron Technology, 8000 S. Federal Way, Boise, ID 83707, USA)
,
McTeer Allen
(Micron Technology, 8000 S. Federal Way, Boise, ID 83707, USA)
,
Srivastava Aseem
(Applied Materials Inc., 35 Dory Road, Gloucester, MA 01930, USA)
,
Maynard Helen
(Applied Materials Inc., 35 Dory Road, Gloucester, MA 01930, USA)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2017
号:
IWJT
ページ:
54-57
発行年:
2017年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)