文献
J-GLOBAL ID:201702275992728937
整理番号:17A0170551
LZO膜のエピタキシャル成長に及ぼす熱処理パラメータの影響を研究した。【JST・京大機械翻訳】
Influence of Heat-treatment Parameters on the Epitaxial Growth of LZO Film Deposited by CSD Process
著者 (5件):
Yu Zeming
(Northwest Institute for Nonferrous Metal Research)
,
Wang Yao
(Northwest Institute for Nonferrous Metal Research)
,
Jin Lihua
(Northwest Institute for Nonferrous Metal Research)
,
Li Chengshan
(Northwest Institute for Nonferrous Metal Research)
,
Zhang Pingxiang
(Northwest Institute for Nonferrous Metal Research)
資料名:
Xiyou Jinshu Cailiao yu Gongcheng
(Xiyou Jinshu Cailiao yu Gongcheng)
巻:
45
号:
10
ページ:
2683-2686
発行年:
2016年
JST資料番号:
W0563A
ISSN:
1002-185X
CODEN:
XJCGEA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
中国 (CHN)
言語:
中国語 (ZH)