文献
J-GLOBAL ID:201702276778123235
整理番号:17A0958358
プラズマ環境内でのCNT成長とエッチングのナノスケール機構
Nanoscale mechanisms of CNT growth and etching in plasma environment
著者 (7件):
KHALILOV Umedjon
(Univ. Antwerp, Antwerp, BEL)
,
BOGAERTS Annemie
(Univ. Antwerp, Antwerp, BEL)
,
HUSSAIN Shahzad
(Univ. d’Orleans, Orleans, FRA)
,
KOVACEVIC Eva
(Univ. d’Orleans, Orleans, FRA)
,
BRAULT Pascal
(Univ. d’Orleans, Orleans, FRA)
,
BOULMER-LEBORGNE Chantal
(Univ. d’Orleans, Orleans, FRA)
,
NEYTS Erik C
(Univ. Antwerp, Antwerp, BEL)
資料名:
Journal of Physics. D. Applied Physics
(Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻:
50
号:
18
ページ:
184001,1-9
発行年:
2017年05月10日
JST資料番号:
B0092B
ISSN:
0022-3727
CODEN:
JPAPBE
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)