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文献
J-GLOBAL ID：201702277052932046
整理番号：17A1999986
化学機械研磨プロセスにおけるパッド調整性能劣化の研究【Powered by NICT】
Investigation of the pad-conditioning performance deterioration in the chemical mechanical polishing process
Kim Hojoong
(Cleaning/CMP Technology Team, Memory Business, Samsung Electronics, Banwol-dong, Hwasung-si, Gyeonggi-do 445-701, Republic of Korea)
,
Hong Seokjun
(School of Mechanical Engineering, Sungkyunkwan University (SKKU), 2066 Seobu-ro, Jangan-gu, Suwon-si, Gyeonggi-do 16419, Republic of Korea)
,
Shin Cheolmin
(School of Mechanical Engineering, Sungkyunkwan University (SKKU), 2066 Seobu-ro, Jangan-gu, Suwon-si, Gyeonggi-do 16419, Republic of Korea)
,
Jin Yinhua
(SKKU Advanced Institute of Nano Technology (SAINT), Sungkyunkwan University (SKKU), 2066 Seobu-ro, Jangan-gu, Suwon-si, Gyeonggi-do 16419, Republic of Korea)
,
Lim Dong Hyun
(Cleaning/CMP Technology Team, Memory Business, Samsung Electronics, Banwol-dong, Hwasung-si, Gyeonggi-do 445-701, Republic of Korea)
,
Kim Jun-yong
(Cleaning/CMP Technology Team, Memory Business, Samsung Electronics, Banwol-dong, Hwasung-si, Gyeonggi-do 445-701, Republic of Korea)
,
Hwang Hasub
(Cleaning/CMP Technology Team, Memory Business, Samsung Electronics, Banwol-dong, Hwasung-si, Gyeonggi-do 445-701, Republic of Korea)
,
Kim Taesung
(School of Mechanical Engineering, Sungkyunkwan University (SKKU), 2066 Seobu-ro, Jangan-gu, Suwon-si, Gyeonggi-do 16419, Republic of Korea)
,
Kim Taesung
(SKKU Advanced Institute of Nano Technology (SAINT), Sungkyunkwan University (SKKU), 2066 Seobu-ro, Jangan-gu, Suwon-si, Gyeonggi-do 16419, Republic of Korea)
資料名：
Wear
(Wear)
巻： 392-393 ページ： 93-98 発行年： 2017年
JST資料番号： E0377A ISSN： 0043-1648 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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