文献
J-GLOBAL ID:201702277138667475
整理番号:17A0471609
ZnOにおける構造と性質の関係:原子および分子層堆積によりフレキシブル基板上に成長させたAlヒドロキノン膜【Powered by NICT】
Structure-property relationships in ZnO:Al-hydroquinone films grown on flexible substrates by atomic and molecular layer deposition
著者 (6件):
Luka Grzegorz
(Institute of Physics, Polish Academy of Sciences, Warsaw, Poland)
,
Wachnicki Lukasz
(Institute of Physics, Polish Academy of Sciences, Warsaw, Poland)
,
Witkowski Bartlomiej S.
(Institute of Physics, Polish Academy of Sciences, Warsaw, Poland)
,
Jakiela Rafal
(Institute of Physics, Polish Academy of Sciences, Warsaw, Poland)
,
Virt Ihor S.
(University of Rzeszow, Rzeszow, Poland)
,
Virt Ihor S.
(Drogobych Pedagogical University, Drogobych, Ukraine)
資料名:
Materials & Design
(Materials & Design)
巻:
119
ページ:
297-302
発行年:
2017年
JST資料番号:
A0495B
ISSN:
0264-1275
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)