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文献
J-GLOBAL ID：201702277214637228
整理番号：17A0442075
シリコン基板上のグラフェン酸化物膜の脱水挙動と構造進化【Powered by NICT】
Dehydration behaviour and structural evolution of graphene oxide membranes on silicon substrate
Wang Rui
(Department of Chemistry, College of Sciences, Shanghai University, Shanghai, 200444, China)
,
Wang Rui
(Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, 201204, China)
,
Gao Hui
(Key Laboratory for Magnetism and Magnetic Materials of the Ministry of Education, Lanzhou University, Lanzhou, 730000, China)
,
Zhu Daming
(Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, 201204, China)
,
Yang Tieying
(Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, 201204, China)
,
Zhang Xingmin
(Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, 201204, China)
,
Li Li
(Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, 201204, China)
,
Yin Guangzhi
(Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, 201204, China)
,
Zhu Lina
(Shanghai Institute of Measurement and Testing Technology, Shanghai, 201203, China)
,
Feng Zhenjie
(Department of Physics, College of Sciences, Shanghai University, Shanghai, 200444, China)
,
Li Xiaolong
(Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai, 201204, China)
資料名：
Carbon
(Carbon)
巻： 114 ページ： 23-30 発行年： 2017年
JST資料番号： H0270B ISSN： 0008-6223 CODEN： CRBNA 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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