文献
J-GLOBAL ID:201702277433965469
整理番号:17A0618532
水溶液からの高純度銅の高分解能集束電子ビーム誘起堆積
Focused electron beam induced deposition of copper with high resolution and purity from aqueous solutions
著者 (3件):
ESFANDIARPOUR Samaneh
(Univ. Kentucky, KY, USA)
,
BOEHME Lindsay
(Univ. Kentucky, KY, USA)
,
HASTINGS J Todd
(Univ. Kentucky, KY, USA)
資料名:
Nanotechnology
(Nanotechnology)
巻:
28
号:
12
ページ:
125301,1-14
発行年:
2017年03月24日
JST資料番号:
W0108A
ISSN:
0957-4484
CODEN:
NNOTER
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)