文献
J-GLOBAL ID:201702277830417148
整理番号:17A1090614
相転位メモリ応用に対する指示された自己集合パターン形成戦略
Directed self-assembly patterning strategies for phase change memory applications
著者 (16件):
BRUCE Robert L.
(IBM T.J. Watson Res. Center, NY)
,
FRACZAK Gloria
(IBM T.J. Watson Res. Center, NY)
,
PAPALIA John M.
(IBM T.J. Watson Res. Center, NY)
,
TSAI HsinYu
(IBM T.J. Watson Res. Center, NY)
,
BRIGHTSKY Matt
(IBM T.J. Watson Res. Center, NY)
,
MIYAZOE Hiroyuki
(IBM T.J. Watson Res. Center, NY)
,
ZHU Yu
(IBM T.J. Watson Res. Center, NY)
,
ENGELMANN Sebastian U.
(IBM T.J. Watson Res. Center, NY)
,
LUNG Hsiang-Lan
(Macronix International Co., Ltd., Hsinchu, TWN)
,
MASUDA Takeshi
(ULVAC, Inc., Shizuoka, JPN)
,
SUU Koukou
(ULVAC, Inc., Shizuoka, JPN)
,
LIU Chi-Chun
(IBM Albany NanoTech, NY)
,
TANG Hao
(IBM Albany NanoTech, NY)
,
ARNOLD John C.
(IBM Albany NanoTech, NY)
,
FELIX Nelson
(IBM Albany NanoTech, NY)
,
LAM Chung H.
(IBM T.J. Watson Res. Center, NY)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
10149
ページ:
101490J.1-101490J.10
発行年:
2017年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)