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文献
J-GLOBAL ID：201702277835869026
整理番号：17A0748319
スパッタN DLC膜の化学的および形態学的特性に及ぼす高N_2流量比の影響【Powered by NICT】
Impact of high N2 flow ratio on the chemical and morphological characteristics of sputtered N-DLC films
Leal G.
(Federal University of Sao Paulo-ICT, Sao Jose dos Campos, SP, Brazil)
,
Fraga M. A.
(Associate Laboratory of Sensors and Materials, National Institute for Space Research, Sao Jose dos Campos, SP, Brazil)
,
Rasia L. A.
(Regional University of the Northwest of State of Rio Grande do Sul, Ijui, RS, Brazil)
,
Massi M.
(Federal University of Sao Paulo-ICT, Sao Jose dos Campos, SP, Brazil)
資料名：
Surface and Interface Analysis
(Surface and Interface Analysis)
巻： 49 号： 2 ページ： 99-106 発行年： 2017年
JST資料番号： E0709A ISSN： 0142-2421 CODEN： SIANDQ 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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