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文献
J-GLOBAL ID：201702278004213662
整理番号：17A0400973
低温度でのα-クアテルチオフェン誘導層を用いたルブレン薄膜成長の機構【Powered by NICT】
Mechanism of rubrene thin film growth using α-quaterthiophene inducing layer at low temperature
Wang Lijuan
(School of Chemical Engineering, Changchun University of Technology, Changchun 130012, China)
,
Yan Chuang
(School of Chemical Engineering, Changchun University of Technology, Changchun 130012, China)
,
Zhang Liang
(School of Chemical Engineering, Changchun University of Technology, Changchun 130012, China)
,
Sun Yang
(School of Chemical Engineering, Changchun University of Technology, Changchun 130012, China)
,
Yin Li
(School of Chemical Engineering, Changchun University of Technology, Changchun 130012, China)
,
Sun Lijing
(School of Chemical Engineering, Changchun University of Technology, Changchun 130012, China)
,
Du Hao
(School of Chemical Engineering, Changchun University of Technology, Changchun 130012, China)
,
Song Xiaofeng
(School of Chemical Engineering, Changchun University of Technology, Changchun 130012, China)
,
Zhang Jidong
(State Key Lab of Polymer Physics and Chemistry, Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Science, Changchun 130022, China)
,
Yang Junliang
(School of Physics and Electronics, Central South University, Changsha 410083, China)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 621 ページ： 131-136 発行年： 2017年
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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