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文献
J-GLOBAL ID：201702278307037995
整理番号：17A1370583
高基板温度下における反応性マグネトロンスパッタリング堆積によるタンタル酸窒化物薄膜光触媒の調製
Preparation of tantalum oxynitride thin film photocatalysts by reactive magnetron sputtering deposition under high substrate temperature
HORIUCHI Yu
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
MINE Shinya
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
MORIYASU Madoka
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
ANPO Masakazu
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
ANPO Masakazu
(Fuzhou Univ., Fujian, CHN)
,
KIM Tae-Ho
(Sun Moon Univ., Asan, KOR)
,
MATSUOKA Masaya
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Research on Chemical Intermediates
(Research on Chemical Intermediates)
巻： 43 号： 9 ページ： 5123-5136 発行年： 2017年09月
JST資料番号： A0851B ISSN： 0922-6168 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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