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文献
J-GLOBAL ID：201702278883309736
整理番号：17A0453858
CCP-CVD法を用いたSiO:CH微粒子の気相中凝集形態における制御因子
相原巧
(千葉工大 工)
,
新谷航
(千葉工大 工)
,
小池遼
(千葉工大 院)
,
井上泰志
(千葉工大 工)
,
井上泰志
(千葉工大 院)
,
高井治
(関東学院大 材料表面研)
資料名：
表面技術協会講演大会講演要旨集
巻： 135th ページ： 92 発行年： 2017年03月01日
JST資料番号： Y0050A ISSN： 0917-2947 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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