文献
J-GLOBAL ID:201702278943672747
整理番号:17A0062089
部分空乏化シリコン・オン・インシュレータMOSFETの総電離線量コンパクトモデリングの新しい方法【Powered by NICT】
New Method of Total Ionizing Dose Compact Modeling in Partially Depleted Silicon-on-Insulator MOSFETs
著者 (6件):
Huang Jianqiang
(Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology, Chinese Academy of Sciences)
,
He Weiwei
(Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology, Chinese Academy of Sciences)
,
Chen Jing
(Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology, Chinese Academy of Sciences)
,
Luo Jiexin
(Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology, Chinese Academy of Sciences)
,
Lu Kai
(Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology, Chinese Academy of Sciences)
,
Chai Zhan
(Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology, Chinese Academy of Sciences)
資料名:
Chinese Physics Letters
(Chinese Physics Letters)
巻:
33
号:
9
ページ:
096101-1-096101-4
発行年:
2016年
JST資料番号:
W1191A
ISSN:
0256-307X
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
中国 (CHN)
言語:
英語 (EN)