文献
J-GLOBAL ID:201702280374081905
整理番号:17A0703381
近接場回折限界を超えた遠プラズモンレンズリソグラフィーの近接補正と分解能の向上【Powered by NICT】
Proximity correction and resolution enhancement of plasmonic lens lithography far beyond the near field diffraction limit
著者 (10件):
Luo Yunfei
(State Key Laboratory of Optical Technologies on Nano-Fabrication and Micro-Engineering, Institute of Optics and Electronics, Chinese Academy of Sciences, P.O. Box 350, Chengdu 610209, China. lxg@ioe.ac.cn)
,
Liu Ling
,
Zhang Wei
,
Kong Weijie
,
Zhao Chengwei
,
Gao Ping
,
Zhao Zeyu
,
Pu Mingbo
,
Wang Changtao
,
Luo Xiangang
資料名:
RSC Advances (Web)
(RSC Advances (Web))
巻:
7
号:
20
ページ:
12366-12373
発行年:
2017年
JST資料番号:
U7055A
ISSN:
2046-2069
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)