文献
J-GLOBAL ID:201702280502096898
整理番号:17A0325555
ストレス記憶材料とその基本プラットフォーム【Powered by NICT】
Stress memory materials and their fundamental platform
著者 (7件):
Hu Jinlian
(Institute of Textiles and Clothing, The Hong Kong Polytechnic University, Kowloon, Hong Kong 999077, China. tchujl@polyu.edu.hk)
,
Zhu Shanshan
,
Young Robert J.
,
Cai Ziqing
,
Li Liangbin
,
Han Jianping
,
Pan Ning
資料名:
Journal of Materials Chemistry A. Materials for Energy and Sustainability
(Journal of Materials Chemistry A. Materials for Energy and Sustainability)
巻:
5
号:
2
ページ:
503-511
発行年:
2017年
JST資料番号:
W0204B
ISSN:
2050-7488
CODEN:
JMCAET
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)