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文献
J-GLOBAL ID：201702280653308463
整理番号：17A1810925
液体窒素温度での酸化ニッケル薄膜の反応性スパッタ蒸着
Reactive sputter deposition of nickel oxide thin films at liquid nitrogen temperature
ABE Yoshio
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
YAMAUCHI Shun
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
KAWAMURA Midori
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
KIM Kyung Ho
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
KIBA Takayuki
(Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN)
,
NARAI Akira
(Kobe Steel Ltd., Kobe, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 56 号： 8 ページ： 088004.1-088004.3 発行年： 2017年08月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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