文献
J-GLOBAL ID:201702281046962369
整理番号:17A0190655
中間倍率モードを持つ暗視野電子ホログラフィーによるナノスケール三角SiGeパターンにおける歪マッピング
Strain mapping in a nanoscale-triangular SiGe pattern by dark-field electron holography with medium magnification mode
著者 (11件):
HOANG Van Vuong
(National Nanofab Center, Daejeon)
,
HOANG Van Vuong
(Chungnam National Univ., Daejeon)
,
CHO Youngji
(National Nanofab Center, Daejeon)
,
YOO Jung Ho
(National Nanofab Center, Daejeon)
,
HONG Soon-Ku
(Chungnam National Univ., Daejeon)
,
CHOI Yong Ho
(Jungwon Univ., Goesan)
,
CHOI Sungha
(Eugene Technol., Co., Ltd, Yongin)
,
JUNG Wooduck
(Eugene Technol., Co., Ltd, Yongin)
,
JEONG Chang Kyu
(Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol. (KAIST), Daejeon)
,
JEONG Chang Kyu
(KAIST Inst. for the NanoCentury (KINC), Daejeon, KOR)
,
YANG Jun-Mo
(National Nanofab Center, Daejeon)
資料名:
Microscopy
(Microscopy)
巻:
65
号:
6
ページ:
499-507
発行年:
2016年12月
JST資料番号:
W1384A
ISSN:
2050-5698
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)