文献
J-GLOBAL ID:201702281178058365
整理番号:17A0302111
トポロジカル絶縁体と半金属におけるDiracフェルミオンとWeylフェルミオンの弱い反局在および相互作用誘起局在化【Powered by NICT】
Weak antilocalization and interaction-induced localization of Dirac and Weyl Fermions in topological insulators and semimetals
著者 (2件):
Lu Haizhou
(Department of Physics, South University of Science and Technology of China)
,
Shen Shunqing
(Department of Physics, The University of Hong Kong, Pokfulam Road)
資料名:
Chinese Physics B
(Chinese Physics B)
巻:
25
号:
11
ページ:
117202_01-117202_08
発行年:
2016年
JST資料番号:
W1539A
ISSN:
1674-1056
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
中国 (CHN)
言語:
英語 (EN)