文献
J-GLOBAL ID:201702281442597862
整理番号:17A0402816
レーザ干渉,EBDWとNSOMリソグラフィーによるAZ5214eフォトレジストの研究【Powered by NICT】
Investigation of the AZ 5214E photoresist by the laser interference, EBDW and NSOM lithographies
著者 (5件):
Skriniarova J.
(Institute of Electronics and Photonics, Slovak University of Technology, Bratislava, Slovakia)
,
Pudis D.
(Department of Physics, University of Zilina, Zilina, Slovakia)
,
Andok R.
(Department of E-Beam Lithography, Institute of Informatics, Slovak Academy of Sciences, Bratislava, Slovakia)
,
Lettrichova I.
(Department of Physics, University of Zilina, Zilina, Slovakia)
,
Uherek F.
(Institute of Electronics and Photonics, Slovak University of Technology, Bratislava, Slovakia)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
395
ページ:
226-231
発行年:
2017年
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)