文献
J-GLOBAL ID:201702281917462938
整理番号:17A0549330
NbNiシリサイドを導入した4H-SiC pMOSFETsの研究
著者 (14件):
梶原純
(広島大 ナノデバイス・バイオ融合科学研)
,
黒木伸一郎
(広島大 ナノデバイス・バイオ融合科学研)
,
黒木伸一郎
(KTH Royal Inst. of Technol.)
,
石川誠治
(広島大 ナノデバイス・バイオ融合科学研)
,
石川誠治
(フェニテックセミコンダクター)
,
前田知徳
(広島大 ナノデバイス・バイオ融合科学研)
,
前田知徳
(フェニテックセミコンダクター)
,
瀬崎洋
(広島大 ナノデバイス・バイオ融合科学研)
,
瀬崎洋
(フェニテックセミコンダクター)
,
吉川公麿
(広島大 ナノデバイス・バイオ融合科学研)
,
牧野高紘
(量子科学技術研究開発機構)
,
大島武
(量子科学技術研究開発機構)
,
OESTLING Mikael
(KTH Royal Inst. of Technol.)
,
ZETTERLING Carl-Mikael
(KTH Royal Inst. of Technol.)
資料名:
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)
(Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻:
64th
ページ:
ROMBUNNO.15p-F204-17
発行年:
2017年03月01日
JST資料番号:
Y0054B
ISSN:
2436-7613
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)