文献
J-GLOBAL ID:201702282161740237
整理番号:17A0335441
DCスパッタITO薄膜の結晶構造と光電子挙動に及ぼす加工パラメータの影響
Effects of processing parameters on crystalline structure and optoelectronic behavior of DC sputtered ITO thin film
著者 (3件):
SHAKIBA M.
(Shahid Chamran Univ. Ahvaz, Ahvaz, IRN)
,
KOSARIAN A.
(Shahid Chamran Univ. Ahvaz, Ahvaz, IRN)
,
FARSHIDI E.
(Shahid Chamran Univ. Ahvaz, Ahvaz, IRN)
資料名:
Journal of Materials Science. Materials in Electronics
(Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻:
28
号:
1
ページ:
787-797
発行年:
2017年01月
JST資料番号:
W0003A
ISSN:
0957-4522
CODEN:
JMTSAS
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)