文献
J-GLOBAL ID:201702282435508603
整理番号:17A0557704
ナノスケール技術ノードのためのVLSI相互接続としての多層カーボンナノチューブの性能に及ぼすトンネルコンダクタンスの影響
Impact of tunneling conductance on the performance of multi walled carbon nanotubes as VLSI interconnects for nano-scaled technology nodes
著者 (3件):
LITORIA Prakhar
(Thapar Univ., Patiala, IND)
,
SANDHA Karmjit Singh
(Thapar Univ., Patiala, IND)
,
KANSAL Ankush
(Thapar Univ., Patiala, IND)
資料名:
Journal of Materials Science. Materials in Electronics
(Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻:
28
号:
6
ページ:
4818-4827
発行年:
2017年03月
JST資料番号:
W0003A
ISSN:
0957-4522
CODEN:
JMTSAS
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)