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文献
J-GLOBAL ID：201702283000393782
整理番号：17A0471314
高周波マグネトロンスパッタリングにより成長したMgNiO薄膜の構造と光学的性質に及ぼすスパッタリングガス圧の影響【Powered by NICT】
The effect of sputtering gas pressure on the structure and optical properties of MgNiO films grown by radio frequency magnetron sputtering
Xie Wuze
(School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin, 150001, People’s Republic of China)
,
Jiao Shujie
(School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin, 150001, People’s Republic of China)
,
Wang Dongbo
(School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin, 150001, People’s Republic of China)
,
Gao Shiyong
(School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin, 150001, People’s Republic of China)
,
Wang Jinzhong
(School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin, 150001, People’s Republic of China)
,
Yu Qingjiang
(School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin, 150001, People’s Republic of China)
,
Li Hongtao
(School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin, 150001, People’s Republic of China)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 405 ページ： 152-156 発行年： 2017年
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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