文献
J-GLOBAL ID:201702283177310500
整理番号:17A0442422
ハイブリッド界面へのシリコンナノワイヤの電解研磨と不動態化【Powered by NICT】
Electropolishing and passivation of silicon nanowires towards hybrid interfaces
著者 (3件):
Haenisch J.
(Helmholtz-Zentrum Berlin fuer Materialien und Energie GmbH, Institut fuer Silizium-Photovoltaik, Kekulestrasse 5, 12489 Berlin Germany)
,
Klimm C.
(Helmholtz-Zentrum Berlin fuer Materialien und Energie GmbH, Institut fuer Silizium-Photovoltaik, Kekulestrasse 5, 12489 Berlin Germany)
,
Rappich J.
(Helmholtz-Zentrum Berlin fuer Materialien und Energie GmbH, Institut fuer Silizium-Photovoltaik, Kekulestrasse 5, 12489 Berlin Germany)
資料名:
Electrochimica Acta
(Electrochimica Acta)
巻:
226
ページ:
46-52
発行年:
2017年
JST資料番号:
B0535B
ISSN:
0013-4686
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)