文献
J-GLOBAL ID:201702283615884936
整理番号:17A1090618
改善されたEPE性能に対するリソグラフィー及びパターニングの両過程の同時最適化
Co-optimization of lithographic and patterning processes for improved EPE performance
著者 (17件):
MASLOW Mark J.
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
TIMOSHKOV Vadim
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
KIERS Ton
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
JEE Tae Kwon
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
DE LOIJER Peter
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
MORIKITA Shinya
(Tokyo Electron Ltd., Tokyo, JPN)
,
DEMAND Marc
(Tokyo Electron Ltd., Tokyo, JPN)
,
METZ Andrew W.
(Tokyo Electron Ltd., Tokyo, JPN)
,
OKADA Soichiro
(Tokyo Electron Ltd., Tokyo, JPN)
,
KUMAR Kaushik A.
(Tokyo Electron Ltd., Tokyo, JPN)
,
BIESEMANS Serge
(Tokyo Electron Ltd., Tokyo, JPN)
,
YAEGASHI Hidetami
(Tokyo Electron Ltd., Tokyo, JPN)
,
DI LORENZO Paolo
(IMEC, Leuven, BEL)
,
BEKAERT Joost P.
(IMEC, Leuven, BEL)
,
MAO Ming
(IMEC, Leuven, BEL)
,
BERAL Christophe
(IMEC, Leuven, BEL)
,
LARIVIERE Stephane
(IMEC, Leuven, BEL)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
10149
ページ:
101490N.1-101490N.16
発行年:
2017年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)