文献
J-GLOBAL ID:201702284453234613
整理番号:17A0325099
表面有機金属中間体を経由するSiO_2上の超薄MoS_2膜への新しい2段階A LD法【Powered by NICT】
A novel 2-step ALD route to ultra-thin MoS2 films on SiO2 through a surface organometallic intermediate
著者 (11件):
Cadot Stephane
(Univ. Grenoble Alpes, FR-38000 Grenoble, CEA, LETI, Minatec Campus, FR-38054 Grenoble Cedex 9, France. francois.martin@cea.fr)
,
Renault Olivier
,
Fregnaux Mathieu
,
Rouchon Denis
,
Nolot Emmanuel
,
Szeto Kai
,
Thieuleux Chloe
,
Veyre Laurent
,
Okuno Hanako
,
Martin Francois
,
Quadrelli Elsje Alessandra
資料名:
Nanoscale
(Nanoscale)
巻:
9
号:
2
ページ:
538-546
発行年:
2017年
JST資料番号:
W2323A
ISSN:
2040-3364
CODEN:
NANOHL
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)