文献
J-GLOBAL ID:201702284962687153
整理番号:17A0756536
ウエハ滞留時間とメイクスパンの2目的最小化のための双腕クラスタツールの非周期的スケジューリング【Powered by NICT】
Non-cyclic scheduling of dual-armed cluster tools for bi-objective minimization of wafer residence time and makespan
著者 (2件):
Sakai Masaru
(Graduate School of Engineering Science, Osaka University, 1-3 Machikaneyama-cho, Toyonaka city, 560-8531, Japan)
,
Nishi Tatsushi
(Graduate School of Engineering Science, Osaka University, 1-3 Machikaneyama-cho, Toyonaka city, 560-8531, Japan)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2016
号:
IEEM
ページ:
1016-1020
発行年:
2016年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)