文献
J-GLOBAL ID:201702285016253268
整理番号:17A0702833
部位選択的X線吸収分光法によるNdNiO_3膜における金属-絶縁体転移の研究【Powered by NICT】
Investigation of the metal-insulator transition in NdNiO3 films by site-selective X-ray absorption spectroscopy
著者 (7件):
Palina Natalia
(Singapore Synchrotron Light Source, National University of Singapore, Singapore 117603, Singapore. natalie.mueller@nus.edu.sg phyandri@nus.edu.sg)
,
Wang Le
,
Dash Sibashisa
,
Yu Xiaojiang
,
Breese Mark B. H.
,
Wang Junling
,
Rusydi Andrivo
資料名:
Nanoscale
(Nanoscale)
巻:
9
号:
18
ページ:
6094-6102
発行年:
2017年
JST資料番号:
W2323A
ISSN:
2040-3364
CODEN:
NANOHL
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)