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文献
J-GLOBAL ID：201702285086173893
整理番号：17A1447297
Cu_2O光電陰極における光腐食を防ぐための電子選択TiO_2/CVDグラフェン層【Powered by NICT】
Electron-Selective TiO2 /CVD-Graphene Layers for Photocorrosion Inhibition in Cu2O Photocathodes
Das Chandan
(Department of Energy Science and Engineering, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai, 400076, India)
,
Ananthoju Balakrishna
(Department of Physics, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai, 400076, India)
,
Dhara Arpan Kumar
(Department of Energy Science and Engineering, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai, 400076, India)
,
Aslam Mohammed
(Department of Physics, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai, 400076, India)
,
Sarkar Shaibal K.
(Department of Energy Science and Engineering, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai, 400076, India)
,
Balasubramaniam Kavaipatti R.
(Department of Energy Science and Engineering, Indian Institute of Technology Bombay, Mumbai, 400076, India)
資料名：
Advanced Materials Interfaces
(Advanced Materials Interfaces)
巻： 4 号： 17 ページ： ROMBUNNO.201700271 発行年： 2017年
JST資料番号： W2484A ISSN： 2196-7350 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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