文献
J-GLOBAL ID:201702285939554642
整理番号:17A0341707
原子論的シミュレーションを用いたインプリントNiAlアモルファス膜の機械力学とパターン転写
Mechanics and Pattern Transfer of Imprinted NiAl Amorphous Films Investigated Using Atomistic Simulation
著者 (4件):
WU Cheng-Da
(Chung Yuan Christian Univ., Taoyuan City, TWN)
,
FANG Te-Hua
(National Kaohsiung Univ. Applied Sci., Kaohsiung, TWN)
,
MING-HONG-LIN
(National Kaohsiung Univ. Applied Sci., Kaohsiung, TWN)
,
SU Jih-Kai
(National Kaohsiung Univ. Applied Sci., Kaohsiung, TWN)
資料名:
Current Nanoscience
(Current Nanoscience)
巻:
13
号:
2
ページ:
215-220
発行年:
2017年
JST資料番号:
W2347A
ISSN:
1573-4137
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
不明 (ARE)
言語:
英語 (EN)