文献
J-GLOBAL ID:201702285967777484
整理番号:17A0696201
イオンエッチング処理による表面トポグラフィーの依存性の数値研究
Numerical Study on the Dependence of Surface Topography with Sputter Etching Process
著者 (4件):
LI Kun-Dar
(National Univ. Tainan, Tainan, TWN)
,
CHANG Tsung-Lung
(National Univ. Tainan, Tainan, TWN)
,
HUANG Po-Yu
(National Univ. Tainan, Tainan, TWN)
,
DONG Yu-Wei
(National Univ. Tainan, Tainan, TWN)
資料名:
Journal of Nanoscience and Nanotechnology
(Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻:
16
号:
9
ページ:
9284-9291
発行年:
2016年09月
JST資料番号:
W1351A
ISSN:
1533-4880
CODEN:
JNNOAR
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)