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文献
J-GLOBAL ID:201702287364307399   整理番号:17A1651175

強化したスキャン遅延試験のための65nm CMOS技術におけるラッチシングルイベント耐性の設計【Powered by NICT】

Design of Single-Event Tolerant Latches in 65nm CMOS Technology for Enhanced Scan Delay Testing
著者 (4件):
Qi Chunhua
(Microelectronics Center, Harbin Institute of Technology, Harbin, China)
Xiao Liyi
(Microelectronics Center, Harbin Institute of Technology, Harbin, China)
Wang Tianqi
(Research Center of Basic Space Science, Harbin Institute of Technology, Harbin, China)
Wang Mingjiang
(Harbin Institute of Technology Shenzhen Graduate School, Shenzhen, China)

資料名:
IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)

巻: 2017  号: PHM (Harbin)  ページ: 1-6  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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