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文献
J-GLOBAL ID:201702287530517276   整理番号:17A0953261

4H-SiC基板上に成長させたAlGaN/GaN高電子移動度トランジスタのGaNバッファ層におけるMg補償効果

Mg-compensation effect in GaN buffer layer for AlGaN/GaN high-electron-mobility transistors grown on 4H-SiC substrate
著者 (9件):
KO Kwangse
(Korea Polytechnic Univ. (KPU), Gyeonggi, KOR)
LEE Kyeongjae
(Korea Polytechnic Univ. (KPU), Gyeonggi, KOR)
SO Byeongchan
(Korea Polytechnic Univ. (KPU), Gyeonggi, KOR)
HEO Cheon
(Korea Polytechnic Univ. (KPU), Gyeonggi, KOR)
LEE Kyungbae
(Korea Polytechnic Univ. (KPU), Gyeonggi, KOR)
KWAK Taemyung
(Korea Polytechnic Univ. (KPU), Gyeonggi, KOR)
HAN Sang-Woo
(Hongik Univ., Seoul, KOR)
CHA Ho-Young
(Hongik Univ., Seoul, KOR)
NAM Okhyun
(Korea Polytechnic Univ. (KPU), Gyeonggi, KOR)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)

巻: 56  号:ページ: 015502.1-015502.5  発行年: 2017年01月 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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