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J-GLOBAL ID:201702287677623624   整理番号:17A0448776

X線光電子分光法により決定した原子層蒸着したTiO_2/多層MoS_2界面のバンドアラインメント【Powered by NICT】

Band alignment of atomic layer deposited TiO2/multilayer MoS2 interface determined by x-ray photoelectron spectroscopy
著者 (8件):
Liu Xinke
(College of Materials Science and Engineering, Nanshan District Key Lab for Biopolymer and Safety Evaluation, Shenzhen University, 3688 Nanhai Ave, Shenzhen, 518060, People’s Republic of China)
Chen Le
(College of Materials Science and Engineering, Nanshan District Key Lab for Biopolymer and Safety Evaluation, Shenzhen University, 3688 Nanhai Ave, Shenzhen, 518060, People’s Republic of China)
Liu Qiang
(State Key Laboratory of Functional Materials for Informatics, Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology, CAS, 865 Chang Ning Road, Shanghai, 200050, People’s Republic of China)
He Jiazhu
(College of Materials Science and Engineering, Nanshan District Key Lab for Biopolymer and Safety Evaluation, Shenzhen University, 3688 Nanhai Ave, Shenzhen, 518060, People’s Republic of China)
Li Kuilong
(College of Materials Science and Engineering, Nanshan District Key Lab for Biopolymer and Safety Evaluation, Shenzhen University, 3688 Nanhai Ave, Shenzhen, 518060, People’s Republic of China)
Yu Wenjie
(State Key Laboratory of Functional Materials for Informatics, Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology, CAS, 865 Chang Ning Road, Shanghai, 200050, People’s Republic of China)
Ao Jin-Ping
(College of Materials Science and Engineering, Nanshan District Key Lab for Biopolymer and Safety Evaluation, Shenzhen University, 3688 Nanhai Ave, Shenzhen, 518060, People’s Republic of China)
Ang Kah-Wee
(Department of Electrical and Computer Engineering, National University of Singapore, 4 Engineering Drive 3, 117583, Singapore)

資料名:
Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)

巻: 698  ページ: 141-146  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0083A  ISSN: 0925-8388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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