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文献
J-GLOBAL ID:201702287702589560   整理番号:17A0665264

p型SnSおよびナノメータ厚Al_2S_3層を用いた金属-絶縁体-半導体電界効果トランジスタ(MISFET)【Powered by NICT】

Metal-insulator-semiconductor field-effect transistors (MISFETs) using p-type SnS and nanometer-thick Al2S3 layers
著者 (7件):
Mudusu Devika
(Department of Aerospace Engineering, Indian Institute of Science, Bangalore 560012, India)
Nandanapalli Koteeswara Reddy
Dugasani Sreekantha Reddy
Karuppannan Ramesh
Kothakota Ramakrishna Reddy Gunasekhar
Erode Subramanian Raja Gopal
Park Sung Ha

資料名:
RSC Advances (Web)  (RSC Advances (Web))

巻:号: 18  ページ: 11111-11117  発行年: 2017年 
JST資料番号: U7055A  ISSN: 2046-2069  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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