文献
J-GLOBAL ID:201702287702589560
整理番号:17A0665264
p型SnSおよびナノメータ厚Al_2S_3層を用いた金属-絶縁体-半導体電界効果トランジスタ(MISFET)【Powered by NICT】
Metal-insulator-semiconductor field-effect transistors (MISFETs) using p-type SnS and nanometer-thick Al2S3 layers
著者 (7件):
Mudusu Devika
(Department of Aerospace Engineering, Indian Institute of Science, Bangalore 560012, India)
,
Nandanapalli Koteeswara Reddy
,
Dugasani Sreekantha Reddy
,
Karuppannan Ramesh
,
Kothakota Ramakrishna Reddy Gunasekhar
,
Erode Subramanian Raja Gopal
,
Park Sung Ha
資料名:
RSC Advances (Web)
(RSC Advances (Web))
巻:
7
号:
18
ページ:
11111-11117
発行年:
2017年
JST資料番号:
U7055A
ISSN:
2046-2069
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)