文献
J-GLOBAL ID:201702288067178724
整理番号:17A0169186
4H-SIC化学機械研磨効果に及ぼす酸化剤濃度の影響【JST・京大機械翻訳】
Influence of oxidant concentration on 4H-SiC chemical mechanical polishing result
著者 (3件):
Gao Fei
(The 46th Research Institude, CETC)
,
Li Hui
(The 46th Research Institude, CETC)
,
Xu Yongkuan
(The 46th Research Institude, CETC)
資料名:
Gongneng Cailiao
(Gongneng Cailiao)
巻:
47
号:
10
ページ:
10189-10192
発行年:
2016年
JST資料番号:
C2095A
ISSN:
1001-9731
CODEN:
GOCAEA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
中国 (CHN)
言語:
中国語 (ZH)