文献
J-GLOBAL ID:201702288405478250
整理番号:17A0407225
反応性スパッタリングした炭化ジルコニウム薄膜の特性に及ぼす基板温度の影響に関する研究【Powered by NICT】
Investigations on the effect of substrate temperature on the properties of reactively sputtered zirconium carbide thin films
著者 (4件):
Kumar S. Sathish
(Department of Instrumentation and Applied Physics, IISc, Bangalore, 560012, India)
,
Sharma Amit
(Department of Materials Engineering, IISc, Bangalore, 560012, India)
,
Rao G. Mohan
(Department of Instrumentation and Applied Physics, IISc, Bangalore, 560012, India)
,
Suwas Satyam
(Department of Materials Engineering, IISc, Bangalore, 560012, India)
資料名:
Journal of Alloys and Compounds
(Journal of Alloys and Compounds)
巻:
695
ページ:
1020-1028
発行年:
2017年
JST資料番号:
D0083A
ISSN:
0925-8388
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)